Neuer Kurs im Sommersemester: Metrology – Analytical methods for semiconductor characterization
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Univ.-Prof. Dr.-Ing. Max Lemme
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Die Vorlesung findet in englischer Sprache im Wintersemester 2018/2019 statt. Voraussetzung sind Grundkenntnisse der Festkörperphysik.
Der Kurs zielt darauf ab, die Grundlagen verschiedener Analyseverfahren zu beschreiben, die üblicherweise zur Charakterisierung von Halbleiteroberflächen und Grenzflächen verwendet werden. Der Kurs ist auch mit den Grundlagen der Datenerfassung und -analyse ausgestattet, die mit diesen Verfahren durchgeführt werden. Der Kurs deckt die meisten Techniken ab, die die Analyse von Halbleitern vom Bulk- bis Nanobereich mit Ionen, Elektronen und Photonen zur Charakterisierung abdecken. Nach Abschluss des Kurses sind die Studierenden in der Lage, die Grundlagen verschiedener Analyseverfahren zur Charakterisierungsmethoden von Halbleiteroberflächen und Grenzflächen zu beschreiben. Darüber hinaus sind sie in der Lage, die Informationen zu unterscheiden, die jede Technik liefern kann, können Vor- und Nachteile jeder Technik diskutieren und berechnen, können Materialparameter basierend auf den analytischen Techniken berechnen und das Wissen während ihrer Forschungs- oder Abschlussarbeit nutzen.
Der Vortrag wird in englischer Sprache gehalten. Die Registrierung kann über RWTH Online erfolgen.